La fonctionnalité de recherche est en construction.
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Micromachined RF Devices for Concurrent Integration on Dielectric-Air-Metal Structures Dispositifs RF micro-usinés pour l'intégration simultanée sur des structures diélectriques-air-métal

Tamotsu NISHINO, Masatake HANGAI, Yukihisa YOSHIDA, Sang-Seok LEE

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Résumé:

Cet article propose un concept de configuration concurrente de dispositifs micro-usinés à radiofréquence (RF) et de systèmes micro-électro-mécaniques (MEMS). Les dispositifs sont fabriqués sur une structure diélectrique-air-métal (DAM) développée à l'origine qui convient à la fabrication de divers dispositifs ensemble. La structure DAM peut proposer des éléments creux supportés par une membrane intégrés dans une plaquette de silicium en y créant des cavités. Même si les appareils ont des profondeurs de cavité différentes, ils sont traités par une seule planarisation. De plus, étant donné que la structure est travaillée uniquement à partir du côté avant de la tranche, aucun processus de retournement ni aucun processus de liaison de tranche n'est requis, ce qui permet d'obtenir une intégration simultanée à faible coût. En tant qu'applications des structures DAM, un guide d'ondes coplanaire creux mis à la terre, des circuits à éléments localisés et un commutateur MEMS sont démontrés.

Publication
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E93-C No.7 pp.1111-1118
Date de publication
2010/07/01
Publicisé
ISSN en ligne
1745-1353
DOI
10.1587/transele.E93.C.1111
Type de manuscrit
Special Section PAPER (Special Section on Recent Progress in Microwave and Millimeter-Wave Technologies)
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